Laserlithographie
Zusammenfassung
Das DLR beschafft eine weitere Anlage für eine klassische Mikrostrukturierungsprozesskette im Reinraum. Dort werden durch das Institut für Quantentechnologien unter anderem Technologien für kompakte Dampfzellen und Komponenten für Quantenspeicher gebaut. Die Anlage dient der direkten Lithographie und der Herstellung von UV-Lithographiemasken mittels Laserlithographie.
Zeitplan & Fristen
Die wichtigsten Termine im Überblick- Veröffentlicht01. Juli 2026
Bekanntmachung und Bereitstellung der Vergabeunterlagen.
- Angebotsfrist03. August 2026
Letzter Termin für die elektronische Angebotsabgabe.
- Bindefrist endet18. September 2026
Bis hierhin sind Sie an Ihr Angebot gebunden (46 Tage). In diesem Zeitraum wird der Zuschlag erteilt.
Zuschlagskriterien
Gewichtung laut Vergabeunterlagen- Qualität30%
- Preis50%
- Service und Lieferung20%
Leistungsumfang
Laserlithographie-Anlage
Beschafft wird eine weitere Anlage für eine klassische Mikrostrukturierungsprozesskette für den Reinraum.
Einsatzzweck der Anlage
Die Anlage dient der direkten Lithographie auf dem Zielsubstrat mit hoher Auflösung und der Herstellung von UV-Lithographiemasken.
Umfang der Beschaffung
Beschafft wird lediglich die spezifizierte Anlage, die benötigten Medien und Peripherie stellt das DLR separat bereit.
Wettbewerb & Angebotsprognose
Erwartete Konkurrenz auf Basis vergleichbarer VergabenVerlauf dieser Vergabe
2 Bekanntmachungen- 02.09.2026Vergabebekanntmachung
Zuschlag erteilt am 11.08.2026
- 01.07.2026Ausschreibungauf dieser Seite
Auf einen Blick
Erfüllungsort
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