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ALD-Anlage

Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. | Vergabekammer Thüringen | Datenservice Öffentlicher Einkauf (in Verantwortung des Beschaffungsamts des BMI)Jena, ThüringenVeröffentlicht:
Angebotsfrist:

Zusammenfassung

Automatisch erstellt aus den Vergabeunterlagen

Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien (IPHT) in Jena schreibt die Lieferung einer Plasma-gestützten Atomlagenabscheidungsanlage (PE-ALD) aus. Die Anlage soll dünne Schichten auf Substraten vom Einzelchip (5×5 mm²) bis mindestens 150 mm Wafer reproduzierbar abscheiden – inklusive Multilagen ohne Vakuumunterbrechung.

Bieter müssen nachweisen, dass sie PE-ALD-Anlagen entwickeln und liefern können (mind. 2 Referenzen, bevorzugt aus dem Forschungsumfeld, max. 3 Jahre alt). Erforderlich sind u. a. Prozessierungsnachweise für mind. 1 Nitrid-Material (z. B. TiN, NbN, NbTiN) und 2 Dielektrika (z. B. Al₂O₃, HfO₂, TiO₂, Nb₂O₅) sowie der Nachweis einer Beschichtungshomogenität ≤ 5 % auf 150 mm Wafer.

Angebote werden ausschließlich elektronisch über das Deutsche Vergabeportal (DTVP) eingereicht. Die Bewertung erfolgt zu 70 % nach technischer Qualität und 30 % nach Preis. Maximales Budget: 549.000 € brutto. Lieferung bis Juni 2027, Abnahme bis Anfang September 2027.

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Zeitplan & Fristen

Aus den Vergabeunterlagen extrahiert
Angebotsfrist: 01. September 2026
Termin / FristSEP2023 MÄR SEP MÄR SEP MÄR SEP MÄR SEP
Referenzzeitraumca. 25. Aug. 2023 – 25. Aug. 2026
Angebotsfrist11. Aug. 2026
Bieterfragen-Frist14. Aug. 2026
Frist Nachforderung Unterlagenca. 14. Aug. – 19. Aug. 2026
Veröffentlichung25. Aug. 2026
Bieterfragen-Beantwortungca. 26. Aug. 2026
Bindefrist11. Aug. – 20. Sep. 2026
Vertragslaufzeit28. Aug. 2026 – 5. Sep. 2027
Angebotsöffnung1. Sep. 2026
Information nicht berücksichtigter Bieterca. 5. Sep. 2026
Lieferdatumca. 1. Juni – 30. Juni 2027
Übernahme und Abnahme1. Sep. – 5. Sep. 2027
Garantiezeitca. 5. Sep. 2027 – 5. Sep. 2028bis 2028
Garantiezeitverlängerung (Option)ca. 5. Sep. 2027 – 5. Sep. 2029bis 2029
vor Angebotsabgabenach Angebotsabgabegeschätzt

Zuschlagskriterien

Gewichtung laut Vergabeunterlagen
Preis & Qualität5 Kriterien
Preis 30%Qualität 70%
  • Technische Spezifikationen70%

    Bewertung der technischen Leistungsfähigkeit der ALD-Anlage anhand der Kriterien in der Bewertungsmatrix. Die erreichten Punkte je Position werden auf die maximal erreichbare Punktzahl normiert und gehen entsprechend der Positionsgewichtung in die Gesamtbewertung ein.

  • Preis30%

    Angebotspreis; Bewertung über P(Bestpreis)/P(Angebot) × 100

G(Angebot) = W(Leistung) × L(Angebot) + W(Preis) × ((P(Bestpreis) / P(Angebot)) × 100); W(Leistung)=70%, W(Preis)=30%; L(Angebot) ergibt sich aus der Bewertungsmatrix (technische Spezifikationen, Pos. 1-4)

KI-Hinweis: Zuschlagskriterien (technische Spezifikationen 70% mit Positionsgewichtungen und Preis 30%) sowie die Bewertungsformel sind vollständig dokumentiert.

Leistungsumfang

Aus den Vergabeunterlagen

Anlagenkern – Kammer und Vakuumsystem

Komplette PE-ALD-Anlage zur DünnschichtabscheidungProzesskammer mit Basisdruck ≤ 5 × 10⁻⁵ TorrProbenschleuse mit Basisdruck ≤ 5 × 10⁻⁵ Torr inkl. automatisches TransfersystemTurbomolekularpumpe (Pflicht); Vorvakuumpumpe als Option (ölfreie Ausführung separat anbieten)Datenlogging-Funktion (Livediagramm ist ein Bonus)Ports für nachträgliche Insitu-Messtechnik (Ellipsometrie, QCM)

Plasma-, Heiz- und Gassystem

1× Remote-Plasma-Quelle und 1× RF-BIAS-QuelleEinstellbarer Substrate-BIAS von 0 bis mind. 300 V, Plasmaleistung mind. 250 W4 Plasmagaslinien für Ar, O₂, N₂ und H₂Reaktorwandheizung ≥ 120 °C und Substratheizung ≥ 400 °CMind. 3 Precursorlinien, davon mind. 2 mit BubblerfunktionBeheizung der Precursorlinien ≥ 120 °C, der Container ≥ 150 °CKompatible Precursor-Container

Substrate und Beschichtungsleistung

Verarbeitung von Chips 5 × 5 mm² bis 100 × 100 mm² und Wafern von 4 Zoll bis mind. 6 Zoll (150 mm)Probendicken 0,2 – 10 mmMind. 1 Carrier für Chip-Probenaufnahme im LieferumfangBeschichtungshomogenität H ≤ 5 % auf 150 mm Wafer (nachzuweisen)Multilagen-Abscheidung ohne Vakuumunterbrechung

Steuerung, Software und Service

Steuer-PC mit Monitor, Tastatur, Maus, aktuellem Betriebssystem (Windows 11) und erforderlichen Software-LizenzenTelefonische und E-Mail-Beratung mit Reaktionszeit ≤ 1 WerktagFernwartungsmöglichkeitMindestgarantie 12 Monate ab Übernahme/Abnahme

Lieferung, Installation und Dokumentation

Transport, Installation und Inbetriebnahme im Angebotspreis enthaltenReinraumgerechte Verpackung (ISO-Klasse 4)Einweisung der künftigen Anlagenbetreiber am AufstellortGerätedokumentation und ServiceunterlagenLieferung frei Verwendungsstelle im Leibniz-IPHT, spätestens Anfang September 2027

Aufstellbedingungen und Medienversorgung

Aufstellung im Reinraum ISO-Klasse 4Stellfläche max. 2000 × 1000 mm², Raumhöhe max. 2500 mmMedien durch Auftraggeber: Elektrik, Druckluft, N₂, Kühlwasser, technische Gase, AbluftProzessgase Ar, H₂, O₂, N₂ werden bereitgestelltAnschluss an das deutsche ElektroenergienetzTransport per LKW mit Ladebordwand oder Gabelstapler, max. Transporthöhe 3700 mmMax. Packungsgröße für Reinraumtransfer 2100 × 1000 × 2500 mm

Mitgelieferte Prozesse (Start-Rezepte)

Mind. 2 Start-Rezepte, davon mind. 1 Nitrid-Prozess (TiN, NbN oder NbTiN)Nachweis der Prozessierung für mind. 1 Material aus Gruppe A: NbN, NbTiN, TiNNachweis der Prozessierung für mind. 2 Materialien aus Gruppe B: TiO₂, Nb₂O₅, HfO₂, Al₂O₃Nachweisformen: White Paper, Peer-reviewed Publikation oder Demonstration

Optionale Komponenten (separat auspreisen)

Ölfreie Prozesspumpe für den ReaktorInsitu-Ellipsometrie inkl. Software und Einbindung in die AnlagensteuerungInsitu-QCM inkl. Software und Einbindung in die Anlagensteuerung4. Precursorlinie inkl. Heizung und Bubblerfunktion (Container ≥ 150 °C, Linien ≥ 120 °C)Weiterer Carrier für Chips und WaferGarantiezeitverlängerung auf 24 Monate

Eignungskriterien

Geforderte Nachweise laut Vergabeunterlagen

Allgemeine Teilnahmebedingungen

Keine Ausschlussgründe nach § 123 GWB bzw. § 42 VgVBeachtung des Thüringer Vergabegesetzes (ThürVgG) bei Auftragswert > 20.000 € nettoErfüllung der steuer- und sozialversicherungsrechtlichen Pflichten gegenüber Finanzämtern und SozialversicherungsträgernKeine Geldbuße > 2.500 € nach § 21 Abs. 1 i. V. m. § 23 AEntG in den letzten 2 JahrenEinhaltung der Bestimmungen gegen Schwarzarbeit und illegale ArbeitnehmerüberlassungErfüllung der gewerberechtlichen VoraussetzungenNachweis einer Betriebshaftpflichtversicherung

Nachweispflichten über Eigenerklärungen und Präqualifikation

Präqualifizierte Unternehmen können ihre PQ-Nummer angebenNicht präqualifizierte Unternehmen müssen eine Eigenerklärung gemäß Formblatt 124 VHB abgebenEigenerklärung zum ThürVgG (vollständig ausgefüllt und unterschrieben) ist Pflicht – sonst Ausschluss nach § 8 Abs. 1 S. 3 ThürVgGEigenerklärung zur Einhaltung der EU-Sanktionen (Verordnung EU 2022/576, Art. 5k) ist PflichtFachkunde, Leistungsfähigkeit und Zuverlässigkeit sind grundsätzlich durch Eigenerklärungen nachzuweisen

Fachliche und technische Eignung

Umfangreiche Erfahrung in Entwicklung und Weiterentwicklung von PE-ALD-AnlagenMind. 2 Referenzen, vorzugsweise aus dem Forschungsumfeld, aus den vergangenen 3 JahrenNachweis erfolgreicher Prozessierung mind. 1 Materials aus Gruppe A (NbN, NbTiN, TiN)Nachweis erfolgreicher Prozessierung mind. 2 Materialien aus Gruppe B (TiO₂, Nb₂O₅, HfO₂, Al₂O₃)Nachweis einer Beschichtungshomogenität H ≤ 5 % auf 150 mm WaferLieferung von mind. 2 Start-Rezepten, davon mind. 1 Nitrid-ProzessDemonstration des Probentransfers von Schleuse zur ReaktorkammerErfüllung aller als 'mind.' oder Pflicht formulierten technischen Mindestanforderungen ist zwingend (Nichterfüllung führt zum Angebotsausschluss)

Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit

Bankbürgschaft für Anzahlungen als Sicherheit (Anzahlung 30 % gegen Bankbürgschaft)Eignung wird über Eigenerklärungen nachgewiesen

Verfahrens- und Vertragsanforderungen

Elektronische Angebotsabgabe über DTVP ist zwingend (E-Mail, Fax und Papier sind ausgeschlossen)Nebenangebote sind nicht zugelassenÄnderungen an den Vergabeunterlagen sind unzulässigAnerkennung der Besonderen Vertragsbedingungen für Lieferleistungen des Leibniz-IPHTBindefrist: 40 Tage ab Angebotsabgabe (bis 20.09.2026)
Referenzprojekte
mindestens 2 ReferenzenZeitraum: vergangene 3 JahreVolumen: nicht spezifiziert

Erfahrung in Entwicklung und Weiterentwicklung von PE-ALD-Anlagen, bevorzugt aus dem Forschungsumfeld

Referenzen aus den vergangenen 3 Jahren, vorzugsweise Forschungsumfeld; Nachweisform nicht näher spezifiziert

KI-Hinweis: Alle Eignungskriterien wurden per KI aus den Vergabeunterlagen extrahiert. Mit TendiGo prüfen Sie in wenigen Minuten, ob Ihr Unternehmen die Anforderungen erfüllt.

Wettbewerb & Angebotsprognose

Erwartete Konkurrenz auf Basis vergleichbarer Vergaben
1–3Angebote erwartet
Median vergleichbarer Vergaben: rund 2 Angebote
Geringe Konkurrenz
Wahrscheinliche Bieterzahl
1–3 · 60%4–10 · 25%11+ · 15%
Checkliste zur AngebotsabgabeKonkrete Schritte laut Vergabeunterlagen0 von 20 erledigt
Angebotsformulare & Preis
Pflicht-Eigenerklärungen & rechtliche Nachweise
Technische Nachweise & Referenzen
Bieter-Stammdaten (eForms)
Optionale Leistungen (separat auspreisen)

Verlauf dieser Vergabe

4 Bekanntmachungen
  1. 21.09.2026Vergabebekanntmachung

    Zuschlag erteilt am 07.09.2026

  2. 25.08.2026Ausschreibungauf dieser Seite
    • Abgabefrist: 11.08.2026 → 01.09.2026
    • Frist für Fragen: 04.08.2026 → 14.08.2026
  3. 07.07.2026Ausschreibung
    • Abgabefrist: 25.08.2026 → 11.08.2026
    • Frist für Fragen: 14.08.2026 → 04.08.2026
  4. 06.07.2026Ausschreibung
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Auf einen Blick

Auftraggeber
Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. | Vergabekammer Thüringen | Datenservice Öffentlicher Einkauf (in Verantwortung des Beschaffungsamts des BMI)
Anschrift
07745 Jena
Ort
07745 Jena
Kategorie
Thueringen
Veröffentlicht
Angebotsfrist

Erfüllungsort

Ort der Leistung
07745 Jena
Thüringen

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