Ausschreibungen Sachsen-Anhalt
Beschaffung einer kompakten Atomic-Layer-Deposition-(ALD)-Anlage zur Herstellung hochqualitativer funktioneller Dünnschichten
Otto-von-Guericke-Universität Magdeburg, Abt. Beschaffung, Zahlstelle (K13)39106 Magdeburg, Sachsen-AnhaltVeröffentlicht:
Angebotsfrist:
Zusammenfassung
Automatisch erstellt aus den VergabeunterlagenDie Otto-von-Guericke-Universität Magdeburg beschafft eine kompakte, tischgeeignete Atomic-Layer-Deposition-Anlage (ALD) für Forschungszwecke in den Bereichen Mikro-/Nanotechnologie, Sensortechnik und Halbleitertechnologie.
Mit der Anlage sollen hochqualitative, funktionale Dünnschichten hergestellt werden – auf Wafern bis 4 Zoll, auf kleineren Proben sowie auf unregelmäßigen, porösen oder 3D-Strukturen. Gefordert ist ein betriebsbereites Komplettsystem mit Prozesskammer, Ozon- und Vakuumsystem, Sicherheitseinrichtungen, Software (ohne wiederkehrende Lizenzgebühren), Zubehör, Installation, Inbetriebnahme sowie mindestens einem Tag Schulung vor Ort.
Es handelt sich um eine Einzelbeschaffung (keine losweise Vergabe). Geschätzter Auftragswert: 116.000 EUR netto. Angebote sind ausschließlich elektronisch über die Vergabeplattform einzureichen.
Zeitplan & Fristen
Aus den Vergabeunterlagen extrahiertTermin / FristAUG2026SEPOKTNOVDEZ
Veröffentlichung28. Aug. 2026
Angebotsfrist14. Sep. 2026
Bindefrist14. Sep. – 14. Okt. 2026
Lieferzeitca. 15. Okt. – 14. Dez. 2026
Installation und Inbetriebnahmeca. 15. Okt. – 14. Dez. 2026
Garantieca. 15. Dez. 2026 – 14. Dez. 2027bis 2027
vor Angebotsabgabenach Angebotsabgabegeschätzt
Leistungsumfang
Aus den VergabeunterlagenSystemkonzept und Rahmenanforderungen
Tischgerät (Benchtop), kein Rack, kein Sockel, kein externes Bedienpult.Maximale Maße: 600 × 600 × 450 mm, Stellfläche ≤ 0,32 m², Gewicht ≤ 55 kg (ohne Pumpe).Kein externer PC, Laptop oder Cloud-Dienst für den Normalbetrieb erforderlich.Keine wiederkehrenden Lizenzgebühren; Software-Updates über die gesamte Betriebslebensdauer ohne Abonnementpflicht.Einsatzbereiche: Mikro-/Nanotechnologie, Sensortechnik, Halbleitertechnologie, Prozessentwicklung, funktionale Dünnschichten.
Prozesskammer
Warmwand-Reaktor, Arbeitstemperatur bis 320 °C.Substratkapazität bis 4 Zoll (100 mm) Durchmesser.Kammerisolationsventil.Metalldichtung im Precursor-Flow-Path.Mindestens 2 unabhängige Temperaturmesspunkte; Regelgenauigkeit ±1 °C.
Precursor- und Reaktantenversorgung
Mindestens 3 unabhängig gesteuerte Precursor-Quellen (≥ 150 °C, Regelgenauigkeit ±2 °C).Mindestens 2 unabhängig gesteuerte Reaktanten-/Prozessgasquellen.Kompatibilität mit H₂O, H₂O₂, O₂, NH₃ und externem Ozon.Mindestens 4 Schnellschaltventile und mindestens 5 Hochtemperaturventile.Edelstahl-Precursor-Behälter (ca. 50 ml), Dosiervolumina (Dose Volumes) und beheizte Leitungen ≥ 175 °C.
Ozonsystem
Ozonkonzentration bis mindestens 9 Gew.-%.O₂/O₃-Gasflow 0,03–3 L/min mit integrierter Gasflusssteuerung und Druckregler.Ozon-Destruktor (Ozonvernichtung) und Sicherheitsabschaltung.
Vakuumsystem und Abgasbehandlung
Trockene, ölfreie Vakuumpumpe (≤ 12 cfm, ≤ 45 dB).Prozesskammer-Vakuumanschluss: KF25/NW25 oder kleiner.Precursor-Abatement-System mit Aktivkohlefilter.
Precursor-Sicherheitssystem
Abschließbarer, extern belüftbarer Precursor-Schrank nach EU-Sicherheitsstandard.Hardware- und Software-Interlocks für alle sicherheitsrelevanten Funktionen.
Prozesssteuerung und Software
SPS/PLC-basiertes Steuerungssystem mit Farb-Touchscreen mindestens 7 Zoll.Vollautomatische Temperaturregelung für Prozesskammer, Precursor-Behälter, Dose Volumes und Precursor-Leitungen.Benutzerdefinierte, editierbare Rezepte.Echtzeitüberwachung der Prozessparameter, Datenexportfunktion.Unterstützte Prozessmodi: Continuous flow-through ALD, Dynamic exposure ALD, Static/stopped-flow exposure, Plasma-enhanced ALD (PEALD), wiederholte Precursor/Reaktant-Subzyklen.Rezepttypen: Binary ALD, Multicomponent ALD, Nanolaminates, Doped Films, Super-cycles, Ternary Processes, Nested Sub-cycles.
Zubehör für Proben- und Wafer-Handling
Kabellose Vakuum-Pinzette bzw. Akku-Saugpinzetten mit Ladestation, Akku, HEPA-Filtration, mindestens 8 Nitril-Saugnäpfe.Mechanisches Wafer-Handhabungswerkzeug (2–3 Zoll, Edge-Grip-Funktion, antistatisch, PEEK/perfluoroelastomer).Adapter für verschiedene Substratgrößen.
Installation, Schulung, Dokumentation und Lieferung
Lieferung frei Verwendungsstelle (Otto-von-Guericke-Universität Magdeburg, Universitätsplatz 2, 39106 Magdeburg) inkl. Transport, Verpackung, Versicherung, ggf. Einfuhr.Installation und Inbetriebnahme am Verwendungsort.Mindestens 1 Tag Vor-Ort-Schulung für das wissenschaftliche Personal.Betriebs- und Installationshandbücher, technische Dokumentation auf Deutsch oder Englisch.Garantie mindestens 12 Monate.Technischer Support für die Prozessentwicklung.
Eignungskriterien
Geforderte Nachweise laut VergabeunterlagenFormale Eignungsnachweise
Mit dem Angebot ist eine Eigenerklärung zur Eignung (z.B. Anlage 124 LD) oder eine Einheitliche Europäische Eigenerklärung (EEE) einzureichen.Erfüllung der gewerberechtlichen Voraussetzungen für die Ausführung der angebotenen Leistung.Bei Auftragssumme über 30.000 EUR behält sich der Auftraggeber vor, einen Auszug aus dem Gewerbezentralregister anzufordern.Auf Verlangen der Vergabestelle sind die Eigenerklärungen durch Bescheinigungen zuständiger Stellen zu bestätigen; alternativ ist ein Eintrag in einem amtlichen Verzeichnis (z.B. PQ-Verzeichnis der IHK) oder ein Zertifikat nach europäischen Standards möglich.Bescheinigungen in nichtdeutscher Sprache sind mit Übersetzung vorzulegen.
Vertragliche Bedingungen
Kenntnisnahme und Akzeptanz der VOL/B (Fragebogen F 1.1 und 1.2).Liefer-, Zahlungs- und Bindefristbedingungen dürfen nur im eigenen Angebotsblatt angepasst werden (Fragebogen F 1.3).Ergänzende Vertragsbedingungen TVergG LSA sind zu beachten.
Nachunternehmer
Beabsichtigt der Bieter den Einsatz von Nachunternehmern, ist die Eigenerklärung zum Nachunternehmereinsatz (Handlungsanweisung Nachunternehmer, § 14 Abs. 2 und Abs. 4 TVergG LSA) auszufüllen und beizufügen.Nachunternehmer sind bei Angebotsabgabe schriftlich oder elektronisch zu benennen.Nachweise und Erklärungen nach § 16 Abs. 2 TVergG LSA sind vor Auftragserteilung vorzulegen; bei nachträglicher Beauftragung oder Wechsel gelten § 16 Abs. 1 TVergG LSA.
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Wettbewerb & Angebotsprognose
Erwartete Konkurrenz auf Basis vergleichbarer Vergaben1–3Angebote erwartet
Median vergleichbarer Vergaben: rund 2 Angebote
Wahrscheinliche Bieterzahl
1–3 · 88%4–10 · 12%11+ · 1%
Checkliste zur AngebotsabgabeKonkrete Schritte laut Vergabeunterlagen0 von 19 erledigt
Pflichtunterlagen Angebot
Sprache, Form und Vollständigkeit
Nachweise und Eignung
Verlauf dieser Vergabe
2 Bekanntmachungen- 06.10.2026Ausschreibungauf dieser Seite
- Beschreibung geändert
- 29.08.2026Ausschreibung
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Auftraggeber
Otto-von-Guericke-Universität Magdeburg, Abt. Beschaffung, Zahlstelle (K13)
Ort
39106 Magdeburg, Sachsen-Anhalt
Kategorie
Sachsen-Anhalt
Veröffentlicht
Angebotsfrist
Erfüllungsort
Ort der Leistung
39106 Magdeburg
Sachsen-Anhalt
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