Low-pressure CVD-Anlage - PR1268522-3380-W
Zusammenfassung
Automatisch erstellt aus den VergabeunterlagenBeschaffung von 1 Low-pressure-CVD-Anlage mit drei horizontalen Prozessreaktoren sowie Erbringung der zugehörigen Liefer- und Installationsleistungen.
Die Anlage wird für Wafer bis 200 mm ausgelegt und in die Reinraum-Infrastruktur in Chemnitz eingebracht. Erforderlich sind unter anderem Prozess- und Gasversorgung, Vakuumsystem, Anlagensteuerung, SECS/GEM-Schnittstelle, Sicherheits- und Abluftkonzept, Prozessabnahme und eine fünfägige Einweisung vor Ort.
Zeitplan & Fristen
Aus den Vergabeunterlagen extrahiertZuschlagskriterien
Gewichtung laut Vergabeunterlagen- Preis35%
Angebotspreis (Angebotssumme inkl. Optionen gemäß Vergabebedingungen), bewertet mittels linearer Interpolation zwischen niedrigstem Preis (100 Punkte) und fiktivem doppeltem Preis (0 Punkte).
- Technische Ausführung des Produktes/der DL65%
Bewertung der technischen Ausführung anhand der mit B gekennzeichneten LV-Positionen (maximal 100 Punkte je Bewertungsposition-Summe), Bewertung anhand des Dokuments 'Konzeptbewertung' bzw. 'Concept Evaluation'. Bewertungsparameter laut Zuschlagskriterien-Dokument; die Punktzahl je Bewertungsposition ist dem LV zu entnehmen.
Preis: lineare Interpolation; niedrigster Angebotspreis erhält 100 Punkte, ein fiktiver doppelt so teurer Preis 0 Punkte, dazwischen linear (Vergabebedingungen, Angebotsauswertung). Technische Ausführung: Punkteskala 0 bis 100, bestes Angebot 100 Punkte, andere relativ dazu. Gesamtwertung: Summe der gewichteten Punkte je Zuschlagskriterium.
Leistungsumfang
Aus den VergabeunterlagenAnlage und Prozessreaktoren
Die Lieferung umfasst 1 dreireaktorige LPCVD-Anlage mit horizontal angeordneten Prozessreaktoren. Vorgesehen sind unter anderem Quarzglasreaktoren mit Doppelrohr- beziehungsweise Linertechnik, Quarzglasboote für 100 mm, 150 mm und 200 mm sowie Prozessbootlift. Die Anlage ist für Wafer bis 200 mm ausgelegt und für einen Prozessbereich von 400 bis 900 °C vorgesehen.
Peripherie und Versorgung
Zur Anlage gehören Flow Box, Handlingsystem, Gaskabinett, Gassystem mit MFC, Gassensoren, TEOS-Präkursor-Zuführung, Vakuumpumpen für die Reaktoren, Chiller, Anschlüsse für 400 V bei maximal 160 A Absicherung und ein Abluftsystem mit maximal 500 m³/h. Chiller und Pumpen sind mit Schlauch- und Kabellängen von 15 Metern vorzusehen.
Steuerung und Schnittstelle
Die Anlage ist mit Anlagensteuerung, zentralem Computersystem und SECS/GEM-Schnittstelle zu liefern. Die Schnittstellenfunktionen, die Kommunikation mit dem übergeordneten System und die für die Abnahme erforderliche Dokumentation sind nachzuweisen.
Einbringung und Installation
Die Anlage und ihre Peripheriegeräte sind in die vorhandene Reinraum-Infrastruktur in Chemnitz einzubringen und aufzustellen. Die Einbringung ist unter Erhalt der Betriebsfähigkeit laufender Anlagen zu planen, mit Darstellung des Aufbauprozesses und der möglichst geringen Beeinträchtigung des laufenden Betriebs. Ein Grundriss mit Fluchtwegen ist Bestandteil der technischen Unterlagen.
Sicherheits- und Umweltkonzept
Für die sicherheitsrelevanten baulichen Lösungen ist ein Konzept mit maximal 15 DIN-A4-Seiten einschließlich aussagekräftiger 2D-Planungsskizze vorzulegen. Es muss die Einbringung, den vorgegebenen Footprint, Wartungsflächen und Wartungsklappen, die Zugänglichkeit von Klappen, Türen und Bauteilen, nutzbare Fluchtwege auch während Wartungsarbeiten, die Einhaltung von SEMI S2 und SEMI S8, die Einhaltung des Abluftgrenzwerts von 500 m³/h, die softwareseitige Fehlbedienungssicherung, die Integration von Gassensoren und die Steuerung bei Schadgasdetektion darstellen.
Abnahme und Prozessqualität
Die Prozessabnahme erfolgt nach Anhang 3 mit jeweils mindestens zwei Runs bei voller Bootbelegung. Dabei ist die Schichtspezifikation auf 200-mm- und 150-mm-Wafern nachzuweisen. Eine Vorabnahme beim Auftragnehmer und eine Abnahme beim Empfänger sind mit schriftlichen Protokollen vorgesehen.
Einweisung und Dokumentation
Die Einweisung erfolgt vor Ort in Chemnitz für 3 Teilnehmer in deutscher Sprache über 5 Tage. Zum Lieferumfang gehören technische Unterlagen für den Betrieb, eine CE-Konformitätserklärung, Zeichnungen und Datenblätter der relevanten Komponenten sowie eine Ersatz- und Verschleißteilliste einschließlich Kosten. Die Verfügbarkeit eines Technikers für 10 Arbeitstage ab Tooldown sowie ein Spezialwerkzeugkoffer und Fernwartung sind vorzusehen.
Optionale Erweiterungen
Als einseitige Optionen des Auftraggebers sind ein Prozessbootlift, zusätzliche Quarzglasboote, Ersatzquarzware und SiC-Liner, Pumpen als eigene Kostenposition sowie Erweiterungen für einen zweiten Flüssigpräkursor mit Kabinett, MFC, Verdampfer und beheizten Leitungen anzubieten. Die Optionen müssen angeboten und im Leistungsverzeichnis bepreist werden.
Eignungskriterien
Geforderte Nachweise laut VergabeunterlagenUnternehmensprofil und Umsatz
Das Unternehmen muss ein Firmenprofil in Textform mit Gründungsjahr, Meilensteinen, Mitarbeiteranzahl sowie hergestellten Produkten und Leistungen vorlegen. Umsatzangaben für 2022, 2023 und 2024, gegebenenfalls auch 2025, sind nachzuweisen.
Referenzen und Anlagenbauerfahrung
Es sind mindestens drei vergleichbare Referenzprojekte nicht älter als 2023 mit Kurzbeschreibung, Kundenbezeichnung und Kontaktdaten vorzulegen. Zusätzlich ist nachzuweisen, dass seit 2016 mindestens 50 Stück des angebotenen Anlagentyps für Halbleiterprozesse gebaut und verkauft wurden.
Technische Zertifizierung und Nachweise
Für die angebotene Anlage sind Nachweise zu SEMI S2, SEMI S8 und der Maschinenrichtlinie EN 13849-1 erforderlich. Zusätzlich sind die geforderten technischen Angaben, Zeichnungen, Prozess- und Abnahmenachweise sowie der Nachweis zur Schadgassensorik, zum Abluftkonzept und zur SECS/GEM-Schnittstelle zu erbringen.
Ausschlussgründe und Erklärungen
Die Eigenerklärung zum Nichtvorliegen von Ausschlussgründen nach §§ 123 und 124 GWB sowie die Eigenerklärung zur EU-Verordnung Nr. 833/2014 sind vollständig, unterschrieben und unverändert einzureichen. Die Erklärung zur wirtschaftlich Berechtigten ist für den vorgesehenen Zuschlagsempfänger vor Zuschlag auf Anforderung vorzulegen.
Nachunternehmer und Bietergemeinschaften
Eingesetzte Nachunternehmer müssen die Eignungskriterien erfüllen, für den Auftragsfall verfügbar sein und ihren Anteil am Auftragsumfang angeben. Bei einer Bietergemeinschaft sind Mitglieder, Vertretungsberechtigung, Arbeitsgemeinschaft und Haftungsregelung zu erklären.
Mindestens drei vergleichbare Referenzprojekte
Vergleichbare Low-pressure-CVD- beziehungsweise LPCVD-Projekte mit Kurzbeschreibung des Geräts, Kundenbezeichnung und Kontaktdaten.
Expertise im Anlagenbau nachweisen
Nachweis für den angebotenen Anlagentyp im Halbleiterprozessbereich, einschließlich atmosphärischer und LPCVD-Prozesse.
Wettbewerb & Angebotsprognose
Erwartete Konkurrenz auf Basis vergleichbarer VergabenAuf einen Blick
Erfüllungsort
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