Vergabeverfahren zur Lieferung einer Gasphasenabscheidungsanlage

• Technischer Support (Dauer)

  Dauer des technischen Supports ab Abnahme: 10 Jahre = 0 Punkte, >= 15 Jahre = 50 Punkte, dazwischen lineare Interpolation (volle Jahre). (Pos. 6.1, A/B-Kriterium)

• Prozessunterstützung und Rezeptbereitstellung (Dauer)

  Zugesicherte Dauer der Prozessunterstützung ab Abnahme inkl. Bereitstellung von Rezepten: 10 Jahre = 0 Punkte, >= 20 Jahre = 100 Punkte, dazwischen lineare Interpolation (volle Jahre). (Pos. 6.6, A/B-Kriterium)

• Fest angestellte Servicetechniker/-ingenieure in Europa

  Anzahl fest angestellter Servicetechniker/-ingenieure des Herstellers in Europa (keine Partnerunternehmen): <= 1 = 0 Punkte, >= 10 = 100 Punkte, dazwischen lineare Interpolation. Nachweis: Eigenerklärung des Herstellers mit Standortangabe. (Pos. 6.7, B-Kriterium)

• Applikationsbereich / Prozessingenieure in Europa

  Nachweis eines eigenen Applikationsbereichs (Reinraum/reinraumähnlich) in Europa mit mind. drei PECVD-Anlagen und einer vergleichbaren ICP-PECVD-Anlage (Mindestbedingung). Bewertet wird Anzahl der Prozessingenieure: <= 5 = 0 Punkte, >= 25 = 100 Punkte, dazwischen lineare Interpolation. Nachweis: Eigenerklärung mit Standort; AG behält sich Besuch vor. (Pos. 6.8, A/B-Kriterium)

• Abscheidungsrezept Siliziumoxid (SiO2)

  Bereitstellung eines optimierten Abscheidungsrezepts für SiO2-Schichten (Zielrate ca. 50 nm/min). Zweistufige Bewertung, max. 150 Punkte: (a) Rezept bereitgestellt und bei Abnahme nachgewiesen: Nein = 0 / Ja = 60 Punkte; (b) Schichtdickenuniformität über 100 mm: >= 5,0% = 0 Punkte, <= 2,0% = 90 Punkte, dazwischen lineare Interpolation. Nachweis bei Abnahme. (Pos. 1.5, B-Kriterium)

• Abscheidungsrezept Siliziumnitrid (Si3N4)

  Bereitstellung eines optimierten Abscheidungsrezepts für Si3N4-Schichten (Zielrate ca. 10 nm/min). Zweistufige Bewertung, max. 150 Punkte: (a) Rezept bereitgestellt und bei Abnahme nachgewiesen: Nein = 0 / Ja = 60 Punkte; (b) Schichtdickenuniformität über 100 mm: >= 5,0% = 0 Punkte, <= 2,0% = 90 Punkte, dazwischen lineare Interpolation. Nachweis bei Abnahme. (Pos. 1.6, B-Kriterium)

• Abscheidungsrezept amorphes Silizium (a-Si:H)

  Bereitstellung eines optimierten Abscheidungsrezepts für a-Si:H-Schichten (Zielrate ca. 5 nm/min). Zweistufige Bewertung, max. 150 Punkte: (a) Rezept bereitgestellt und bei Abnahme nachgewiesen: Nein = 0 / Ja = 60 Punkte; (b) Schichtdickenuniformität über 100 mm: >= 6,0% = 0 Punkte, <= 3,0% = 90 Punkte, dazwischen lineare Interpolation. Nachweis bei Abnahme. (Pos. 1.7, B-Kriterium)

• Energieverbrauch unter Volllast

  Energieverbrauch der Anlage unter Volllast: >= 15 kW = 0 Punkte, <= 8 kW = 50 Punkte, dazwischen lineare Interpolation. (Pos. 1.10, A/B-Kriterium)

• Endpunktdetektion (spektrometerbasiert)

  Option zur Endpunktdetektion für Reinigungsprozesse mittels optischem, spektrometerbasiertem System (Wellenlängenbereich 200-850 nm), in Systemsoftware integriert: Nein = 0 Punkte, Ja = 50 Punkte (nur wenn Hardware- und Software-Integration möglich). (Pos. 5.18, B-Kriterium)

• Benutzerfreundlichkeit der Softwareoberfläche

  Bewertung der Benutzerfreundlichkeit der Softwareoberfläche anhand Struktur, Verständlichkeit und Bedienlogik für die Zielgruppe Studierende und wissenschaftliche Mitarbeiter auf Grundlage der Software-Bedienungsanleitung. Stufen: nicht erfüllt = 0, gering = 50, erfüllt = 100, gut = 150, sehr gut = 200 Punkte. (Pos. 5.19, B-Kriterium)

• Vakuumschleuse - Pirani-Röhre

  Ausstattung der Vakuumschleuse mit einer Pirani-Röhre zur Vakuummessung: Nein = 0 Punkte, Ja = 50 Punkte. (Pos. 6.7, B-Kriterium)

• Vakuumschleuse - deaktivierbarer Wafersensor

  Ausstattung der Schleuse mit einem deaktivierbaren Wafersensor: Nein = 0 Punkte, Ja = 50 Punkte. (Pos. 6.8, B-Kriterium)

• Vakuumschleuse - Be- und Entladung 200 mm Wafer

  Möglichkeit, bis zu 200 mm Wafer mit einer Vakuumpinzette zu be- und entladen (Foto beilegen): Nein = 0 Punkte, Ja = 150 Punkte. (Pos. 6.9, B-Kriterium)

Z(Angebot) = L/P = Leistungspunktzahl / Gesamtwertungspreis (Erweiterte Richtwertmethode gemäß UfAB 2018.04). Skalierung: Multiplikation mit 10.000. Schwankungsbereich (SB) = 5%. Entscheidungskriterium 1 (EK1) = Leistungspunktewert, Entscheidungskriterium 2 (EK2) = Gesamtwertungspreis (Angebotspreis).