Vergabeverfahren zur Lieferung einer Gasphasenabscheidungsanlage

Die Universität Heidelberg beschafft eine Plasma-unterstützte Chemische Gasphasenabscheidungsanlage (PECVD) mit induktiv gekoppelter Plasmaquelle (ICP) als Neugerät. Die Anlage dient der Forschung und muss im Reinraum in Betrieb genommen werden.

Gefordert wird unter anderem:

Budget: Maximal 806.000,00 EUR brutto. Lieferung bis spätestens 50 Wochen nach Auftragsvergabe.

• Preis

  Wertungsbruttopreis für das System inklusive aller Leistungen wie Einweisung, Lieferung und Inbetriebnahme; darf maximal 806.000,00 EUR brutto betragen.

• Technischer Support (Dauer)50%

  Dauer des technischen Supports ab Abnahme: 10 Jahre = 0 Punkte, >= 15 Jahre = 50 Punkte, dazwischen lineare Interpolation (volle Jahre). (AB-Kriterium, Pos. 6.1)

• Prozessunterstützung und Rezeptbereitstellung100%

  Zugesicherte Dauer der Prozessunterstützung ab Abnahme inkl. Bereitstellung von Rezepten: 10 Jahre = 0 Punkte, >= 20 Jahre = 100 Punkte, dazwischen lineare Interpolation. (AB-Kriterium, Pos. 6.6)

• Anzahl fest angestellter Servicetechniker/-ingenieure in Europa100%

  Anzahl fest angestellter Servicetechniker/-ingenieure des Herstellers in Europa (keine Partnerunternehmen): <=1 = 0 Punkte, >=10 = 100 Punkte, dazwischen lineare Interpolation. (B-Kriterium, Pos. 6.7)

• Prozessingenieure im europäischen Applikationsbereich100%

  Anzahl Prozessingenieure im europäischen Applikationsbereich (Reinraum/reinraumähnlich, eigene Anlagen inkl. ICP-PECVD): <=5 = 0 Punkte, >=25 = 100 Punkte, dazwischen lineare Interpolation. (AB-Kriterium, Pos. 6.8)

• Abscheidungsrezept SiO2-Schichten150%

  Zweistufige Bewertung max. 150 Punkte: (a) Rezeptbereitstellung und Nachweis bei Abnahme: Nein=0 / Ja=60; (b) Schichtdickenuniformität über 100 mm: >=5%=0, <=2%=90, dazwischen linear interpoliert. (B-Kriterium, Pos. 1.5)

• Abscheidungsrezept Si3N4-Schichten150%

  Zweistufige Bewertung max. 150 Punkte: (a) Rezeptbereitstellung und Nachweis bei Abnahme: Nein=0 / Ja=60; (b) Schichtdickenuniformität über 100 mm: >=5%=0, <=2%=90, dazwischen linear interpoliert. (B-Kriterium, Pos. 1.6)

• Abscheidungsrezept amorphes Silizium (a-Si:H)150%

  Zweistufige Bewertung max. 150 Punkte: (a) Rezeptbereitstellung und Nachweis bei Abnahme: Nein=0 / Ja=60; (b) Schichtdickenuniformität über 100 mm: >=6%=0, <=3%=90, dazwischen linear interpoliert. (B-Kriterium, Pos. 1.7)

• Energieverbrauch unter Volllast50%

  Energieverbrauch der Anlage unter Volllast: >=15 kW = 0 Punkte, <=8 kW = 50 Punkte, dazwischen linear extrapoliert. (AB-Kriterium, Pos. 1.10)

• Endpunktdetektion (spektrometerbasiert)50%

  Option zur Erweiterung um spektrometerbasierte Endpunktdetektion für Reinigungsprozesse (200-850 nm), in Systemsoftware integriert: Nein=0 Punkte, Ja=50 Punkte (nur bei Hardware- und Software-Integration). (B-Kriterium, Pos. 5.18)

• Benutzerfreundlichkeit der Softwareoberfläche200%

  Bewertung anhand Struktur, Verständlichkeit und Bedienlogik für Studenten/wissenschaftliche Mitarbeiter auf Grundlage der Software-Bedienungsanleitung: nicht erfüllt=0, gering=50, erfüllt=100, gut=150, sehr gut=200. (B-Kriterium, Pos. 5.19)

• Vakuumschleuse – Pirani-Röhre50%

  Schleuse mit Pirani-Röhre zur Vakuummessung ausgestattet: Nein=0 Punkte, Ja=50 Punkte. (B-Kriterium, Pos. 6.7)

• Vakuumschleuse – deaktivierbarer Wafersensor50%

  Schleuse mit deaktivierbarem Wafersensor ausgestattet: Nein=0 Punkte, Ja=50 Punkte. (B-Kriterium, Pos. 6.8)

• Vakuumschleuse – Be-/Entladung 200 mm Wafer mit Vakuumpinzette150%

  Be- und Entladung von bis zu 200 mm Wafern mit Vakuumpinzette möglich (Foto beilegen): Nein=0 Punkte, Ja=150 Punkte. (B-Kriterium, Pos. 6.9)

Bewertung erfolgt über ein Punktesystem. Es werden Punkte für verschiedene B- und AB-Kriterien vergeben (z.B. lineare Interpolation zwischen Mindest- und Bestwerten). Die Gesamtpunktzahl wird zur Angebotswertung herangezogen. Der Preis wird als Wertungsbruttopreis (max. 806.000 EUR brutto) erfasst; eine Preisformel oder Gewichtung des Preises ist nicht explizit angegeben.