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APECS FBH-01.3 ION BEAM ETCHING

Ferdinand-Braun-Institut gGmbH, Leibniz-Institut für Höchstfrequenztechnik | Vergabekammer des Landes Berlin | Datenservice Öffentlicher Einkauf (in Verantwortung des Beschaffungsamts des BMI)Berlin, BerlinVeröffentlicht:
Angebotsfrist:

Zusammenfassung

Automatisch erstellt aus den Vergabeunterlagen

Das Ferdinand-Braun-Institut (FBH) beschafft im Rahmen des EU-Projekts APECS eine Ionenstrahlätzanlage (Ion Beam Etching) mit Fluor- und Chlor-Chemie für die Halbleiterfertigung im Reinraum.

Die Anlage muss bipolare InP-Chiplets und GaAs-Laser-Chipets auf Wafern bis 200 mm bearbeiten können und in den Betriebsarten CAIBE und RIBE laufen. Gefordert sind u.a. 7 Gaskanäle, automatische Wafer-Beladung, Reinraumklasse ISO 5 sowie eine Steuerung nach SEMI E95.

Lieferung, Installation, Inbetriebnahme, Prozesstraining und Wartung sind Teil des Auftrags. Die Lieferzeit beträgt maximal 12 Monate nach Beauftragung. Zuschlag: technische Realisierung 50 %, Preis 40 %, Service 10 %.

Bieter müssen u.a. 3 Referenzprojekte (EU-weit, letzte 5 Jahre, Anlagen mit F/Cl-Chemie) und einen Mindestjahresumsatz von 2 Mio. € nachweisen.

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Zeitplan & Fristen

Aus den Vergabeunterlagen extrahiert
Aktive Ausschreibung
HEUTE
Termin / FristJUL2026 SEP NOV JAN2027 MÄR MAI JUL
Veröffentlichungca. 7. Juli 2026
Teilnahmefristca. 7. Juli 2026
Lieferzeitca. 8. Juli 2026 – 8. Juli 2027
Service Response-Zeit8. Juli 2027
Gewährleistungca. 9. Juli 2027 – 9. Juli 2028bis 2028
vor Angebotsabgabenach Angebotsabgabegeschätzt

Zuschlagskriterien

Gewichtung laut Vergabeunterlagen
Niedrigster Preis1 Kriterium
Preis 100%Qualität 0%
  • Preis100%

    Angebotspreis als einziges Zuschlagskriterium

KI-Hinweis: Wertungsschema ist vollständig im Leistungsverzeichnis angegeben: Preis 100%.

Leistungsumfang

Aus den Vergabeunterlagen

Kernleistung

Beschaffung einer Ionenstrahlätzanlage (Ion Beam Etching, IBE) im Rahmen des EU-Projekts APECS.

Bearbeitung von InP- und GaAs-Wafern (Chiplet-Bearbeitung) sowie Metallen wie GoldWaferformate 100 mm, 150 mm und 200 mm flexibel unterstütztReinraumtauglichkeit mindestens ISO 14644-1 Klasse 5Betriebsarten CAIBE (chemically assisted ion beam etching) und RIBE (reactive ion beam etching) müssen möglich seinInstallation erfolgt durch eine Reinraumwand

Technische Anforderungen an die Anlage

Gas- und Vakuumsystem:

Trockenes Pumpsystem (bevorzugt EBARA EV-S20N)Turbo-Molekularpumpe7 Gaskanäle: CF4, CHF3, O2, Ar, Cl2, BCl3, N2Automatische DruckregelungGeheizte Kammerwände für reaktive Gase

Wafer-Handling:

Automatisches Ein- und AusschleusenEinzel-Wafer-BeladestationWafer-Sensor

Substrathalter:

Wassergekühlte Halterung mit He-RückseitenkühlungNeigungsverstellung 0° bis 170°Shutter vorhanden

Quelle: Kompatibel zu reaktiven Gasen.

Platzbedarf: max. 2 × 3 × 2,8 m (B × T × H).

Steuerung, Software & Endpunkterkennung

Windows 10 LTSC oder höherSEMI E95 StandardRezeptsteuerungOES-Integration (Optische Emissionsspektrometrie) mit Ätzstopp-FunktionData-LoggingNetzwerkschnittstelleOptional: SIMS-Integration, universelle Schnittstelle (SECS/GEM) für MES-Datenbank

Abnahmekriterien & Prozess-Performance

Prozess-Abnahmekriterien (müssen nachweislich erfüllt werden):

Ätzen einer Au-Platinbase und darunterliegendes TiW auf BCB, Stopp auf BCBIBE-Prozess mit Ar, Endpunkt über OESProfilwinkel: 85° bis 90°Uniformity: < 5 %

Lieferung, Installation & Service

Lieferzeit: max. 12 Monate nach BeauftragungWerkabnahme/Vorabnahme beim Hersteller vor AuslieferungInbetriebnahme und Abnahme durch den Anbieter vor Ort beim FBHVor-Ort-Prozesstraining durch einen ProzessingenieurService-Response-Zeit: max. 24 Stunden an WerktagenGewährleistung: 1 Jahr nach AbnahmeBankbürgschaft: selbstschuldnerische, unbefristete, unwiderrufliche Bankbürgschaft eines EU-Kreditinstituts, abrufbar auf erstes Anfordern (bei Anzahlung bis 30 %)

Optionale Leistungen (gesondert zu bepreisen)

In-situ Optisches Emissionsspektrometer (OES)In-situ Sekundärionen-Massenspektrometrie (SIMS)Wafer-VorheizsystemErweiterte ServicepaketeUniverselle SECS/GEM-Schnittstelle für MES-Datenbanksystem

Dokumentation & Konformität

CE-KonformitätsdokumentationKonformität mit deutschen Arbeitssicherheits- und BrandschutzbestimmungenISO 14001:2004 Zertifizierung des HerstellersBedienungsanleitung mindestens in EnglischTechnische Produktunterlagen (Prospekte, Datenblätter) können in Originalsprache eingereicht werdenAngebotssprache: Deutsch (Ausschreibungsformulare); Produktunterlagen auch in Englisch zulässig

Eignungskriterien

Geforderte Nachweise laut Vergabeunterlagen

Befugnis (rechtlich)

Eigenerklärung Gewerbezentralregister: keine ausschließenden Einträge (Anlage A1)

Wirtschaftliche / finanzielle Leistungsfähigkeit

Mindestumsatz: Netto-Jahresgesamtumsatz im Durchschnitt der letzten drei abgeschlossenen Geschäftsjahre (2023, 2024, 2025) ≥ 2.000.000 €Nachweis per Eigenerklärung (Anlage 'Eigenerklärung Umsatz')

Versicherung

Berufs- und Betriebshaftpflichtversicherung mit Deckungssumme ≥ 5.000.000 € pro SchadensfallGeltungsbereich: Vermögens-, Sach- und Personenschäden

Technische Eignung des Herstellers

ISO 14001:2004 Zertifizierung des HerstellersCE-Konformität der AnlageKonformität mit deutschen Arbeitssicherheits- und BrandschutzbestimmungenMind. 5 Referenzen für das gleiche System in Europa

Referenzprojekte (Unternehmen)

3 Referenzprojekte zu Ionenstrahlanlagen mit Fluor- und Chlor-ChemieLeistung umfasste Produktion, Lieferung, Installation und WartungDurchgeführt in Forschungseinrichtungen innerhalb der EULetzte 5 JahreLieferzeit innerhalb von 12 Monaten nach VertragsabschlussDie Referenzanlage muss zum Zeitpunkt der Angebotsabgabe noch in Betrieb seinJeweils ca. eine halbe A4-Seite pro Projekt auf Unternehmensreferenzbogen (Anlage A 3)Falls Lieferung nicht abgeschlossen: Wartungsvertrag mind. 6 Monate (oder Referenz vollständig abgeschlossen)

Schlüsselpersonal

Mindestens 2 Serviceingenieure mit Erfahrung in Installation und Wartung von Ionenstrahlanlagen mit F/Cl-ChemieEinreichung von Kurzprofilen/Lebensläufen (Anlage D1)Falls Einsatz über Unterauftragnehmer: verbindliche Zusicherung und eindeutige Darstellung der Zugehörigkeit (Anlage D2)

Sozialrechtliche Eignung

Nachweis über die Auszahlung von Mindestlohn, Tariflohn oder übertariflichem Lohn (Anlage F1)

Zuschlagskriterien (Wertung)

| Kriterium | Gewichtung |

|---|---|

| Technische Realisierung | 50 % |

| Preis | 40 % |

| Service / Support | 10 % |

Referenzprojekte
3 ReferenzenZeitraum: Letzte 5 JahreVolumen: nicht spezifiziert

Referenzprojekte zu Ionenstrahlanlagen mit Fluor- und Chlor-Chemie (IBE/CAIBE/RIBE) – Produktion, Lieferung, Installation, Wartung

EU-weit; Lieferung innerhalb 12 Monaten nach Vertragsabschluss; Anlage muss zum Zeitpunkt der Angebotsabgabe noch in Betrieb sein; je ca. eine halbe A4-Seite auf Unternehmensreferenzbogen

5 ReferenzenZeitraum: nicht spezifiziertVolumen: nicht spezifiziert

Technische Referenzen für das gleiche System in Europa (IBE mit F/Cl-Chemie)

Gleiches System in Europa nachgewiesen

KI-Hinweis: Alle Eignungskriterien wurden per KI aus den Vergabeunterlagen extrahiert. Mit TendiGo prüfen Sie in wenigen Minuten, ob Ihr Unternehmen die Anforderungen erfüllt.

Wettbewerb & Angebotsprognose

Erwartete Konkurrenz auf Basis vergleichbarer Vergaben
1–3Angebote erwartet
Median vergleichbarer Vergaben: rund 2 Angebote
Geringe Konkurrenz
Wahrscheinliche Bieterzahl
1–3 · 49%4–10 · 36%11+ · 15%
Checkliste zur AngebotsabgabeKonkrete Schritte laut Vergabeunterlagen0 von 19 erledigt
Formulare & Eigenerklärungen
Nachweise zur Eignung
Schlüsselpersonal
Referenzen
Leistungsverzeichnis & Preis
Technische Unterlagen
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Auf einen Blick

Auftraggeber
Ferdinand-Braun-Institut gGmbH, Leibniz-Institut für Höchstfrequenztechnik | Vergabekammer des Landes Berlin | Datenservice Öffentlicher Einkauf (in Verantwortung des Beschaffungsamts des BMI)
Anschrift
12489 Berlin
Ort
12489 Berlin
Kategorie
Berlin
Veröffentlicht
Angebotsfrist
Auftraggeber-Website
www.fv-berlin.de

Erfüllungsort

Ort der Leistung
12489 Berlin
Berlin

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