Deposition Tool 8 Inch

Lehrstuhl für Technische Physik E23, TUM | Regierung von Oberbayern - Vergabestelle Südbayern | Datenservice Öffentlicher Einkauf (in Verantwortung des Beschaffungsamts des BMI)Garching, BayernVeröffentlicht: 20. August 2026

Angebotsfrist: 05. Oktober 2026

Zusammenfassung

Automatisch erstellt aus den Vergabeunterlagen

Die Technische Universität München (Lehrstuhl E23 / Walther-Meißner-Institut) beschafft ein UHV-Cluster-System zur Fertigung supraleitender Schaltkreise auf 8-Zoll-Wafern.

Das System umfasst mehrere Vakuumkammern: eine HV-Ladenschleuse, eine zentrale Handhabungskammer, Kammern für Verdampfung (Al), Oxidation, Sputtern (Supraleiter) und Ar-Ionenätzen sowie eine Flip-Station. Die Wafer sollen beidseitig in-situ metallisiert werden können, mit minimaler Partikelkontamination und ausschließlich seitlicher (Kantengriff-) Handhabung.

Bieter müssen u.a. technische Spezifikationen, Konformitätsnachweise (CE, SEMI S6/S22) sowie 3 Referenzen ähnlicher Systeme vorlegen. Angebote sind bis 05.10.2026, 12:00 Uhr elektronisch über die Vergabeplattform einzureichen.

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Zeitplan & Fristen

Aus den Vergabeunterlagen extrahiert

Angebotsfrist: 05. Oktober 2026

Termin / FristAUG2026 NOV FEB MAI AUG NOV FEB

Veröffentlichung20. Aug. 2026

Bieterfragen-Frist28. Sep. 2026

Angebotsfrist5. Okt. 2026

Angebotsöffnung5. Okt. 2026

Bindefrist5. Okt. – 1. Nov. 2026

Lieferzeitca. 5. Feb. 2027 – 5. Apr. 2028

Gewährleistungca. 5. Apr. 2028 – 5. Apr. 2030bis 2030

Verfügbarkeit Ersatzteileca. 5. Apr. 2028 – 5. Apr. 2038bis 2038

Optionaler Servicevertragca. 5. Apr. 2028 – 5. Apr. 2033bis 2033

Software-Fehlerbehebungca. 5. Apr. 2028 – 5. Apr. 2038bis 2038

Schadensreparatur Automatisierungsfehlerca. 5. Apr. 2028 – 5. Apr. 2033bis 2033

vor Angebotsabgabenach Angebotsabgabegeschätzt

Zuschlagskriterien

Gewichtung laut Vergabeunterlagen

Preis & Qualität4 Kriterien

Preis 40%Qualität 60%

Preis, Betriebskosten40%
Kaufpreis zuzüglich der über einen Zeitraum von 10 Jahren erwarteten akkumulierten Betriebskosten (bei ca. 6.000 Std./Jahr). Niedrigste Summe erhält 4 Punkte, lineare Interpolation bis zum 2,0-fachen der niedrigsten Summe (0 Punkte). (Aspekte: Preis (Kaufpreis), Betriebskosten (10 Jahre))
Technische Spezifikationen & innovative Eigenschaften45%
Vergleichende Wertung der in der Leistungsbeschreibung aufgelisteten gewünschten Spezifikationen; Übererfüllung führt zu höherer, Untererfüllung zu niedrigerer Punktezahl. Maximale Punktzahl (4) für die besten angebotenen Leistungsdaten, lineare Abwertung bei schlechteren Spezifikationen.
3 Referenzen von vergleichbaren Systemen5%
Drei Referenzen über vergleichbare Systeme; vergleichende/prognostische Bewertung mit 0–4 Punkten.
Lieferzeit, Kundendienst, technischer Support10%
Prognostische Bewertung der Angebotsinhalte zu Lieferzeit, Kundendienst und technischem Support mit 0–4 Punkten (4 = einwandfreie Leistung erwartet, 0 = keine ordnungsgemäße Leistung erkennbar).

Preis/Betriebskosten: Punktzahl = Höchstpunktzahl * (2 - (angebotener Preis/niedrigster Preis)), wobei zum Kaufpreis die über 10 Jahre akkumulierten Betriebskosten addiert werden; niedrigste Summe = 4 Punkte, beim 2,0-fachen = 0 Punkte, dazwischen lineare Interpolation. Technische Spezifikationen: vergleichende Wertung, beste Leistungsdaten = 4 Punkte, lineare Abwertung bei schlechteren Spezifikationen. Übrige Kriterien (Lieferzeit, Kundendienst, technischer Support, Referenzen): prognostische Bewertung mit 0–4 Punkten.

KI-Hinweis: Alle Zuschlagskriterien, Gewichtungen und Bewertungsformeln sind in Anlage 2 und in der Leistungsbeschreibung (Evaluation Matrix) vollständig angegeben; die Bekanntmachung verweist nur auf die Vergabeunterlagen.

Leistungsumfang

Aus den Vergabeunterlagen

Gesamtsystem und Aufstellanforderungen

Radiales Cluster-System mit zentralem UHV-Transfermodul und individuell isolierbaren Prozessmodulen.Wafergröße: bis 200 mm (8 Zoll), SEMI M1 konform.Footprint: ≤350 cm × 400 cm, Höhe: ≤330 cm; Transport durch Türöffnungen 250 cm Höhe / 100 cm Breite.Uniformität: <5% bei Verdampfung und Ätzung, ±3% beim Sputtern.Alle Vakuumpumpen, Gasanlagen, Punkt-of-Use-Filter, all-metal Gasleitungen sind Bestandteil.Einheitlicher Ansprechpartner für die gesamte Systemverantwortung (inkl. Unterauftragnehmer).Erweiterungsfähigkeit: zusätzlicher Handler mit Prozessmodulen ohne Austausch von Schaltschrank oder Steuerungssoftware.Unabhängige Modulisolation, Belüftung und Bakeout je Modul.Betrieb ohne Internetverbindung möglich; Ferndiagnose nur unter Kontrolle des Auftraggebers.

Pflichtbestandteile (Kammern und Komponenten)

HV Load-Lock Kammer: Basisdruck ≤1×10⁻⁷ mbar, mind. 10 Plattformen, Degasing bis 120 °C.Zentraler UHV Handling-Roboter: Basisdruck nach Bakeout ≤1×10⁻⁹ mbar.UHV Verdampferkammer: Elektronenstrahlverdampfung für Al.UHV Oxidationskammer: statisch 0,001–600 mbar, dynamisch 5 µbar–50 mbar.UHV Sputterkammer: 4× 4- oder 6-Zoll-Magnetron-Sputterquellen, DC/RF kompatibel.UHV Ar-Ionenätzkammer: neutralisierte Ar- oder O₂-Ionen.Flip-Station (HV): ≤1×10⁻⁷ mbar.Steuerungs- und Automatisierungssystem, Zubehör und Handbücher.

Wafer-Handling und Prozessziele

Beidseitiges in-situ-Metallisieren der Wafer.Minimale Partikelkontamination auf der Wafer-Rückseite.Ausschließlich Kantengriff (Edge Gripping) – Wafer-Oberflächen werden nicht berührt.Automatisierte Depositions- und Oxidationsprozesse.

Optionale Komponenten (separat anzubieten)

Zusätzliche Tiegel / Refill-System für Verdampferkammer.NEG-Getterpumpen.Wasser- oder kryogen gekühlte Haube über e-gun.Kassetten-Load-Lock (25-Wafer-Kassette).Substratheizung in Oxidationskammer (≥700 °C).Remote Plasma Oxidation.RF-Netzteil und HIPIMS-Netzteil für Sputterkammer.Oxidationsfähigkeit in der Verdampferkammer.LN₂-Kühlung in der Verdampferkammer.Aktive Kühlung in der Sputterkammer.Quartz-Kristallwaage in der Sputterkammer.Argon-Ionenstrahldiagnostik (Faraday-Cup-Array).Substratkühlung während Ätzung.Schnellkühlung nach Degasing im Load-Lock.Restgasanalysator (RGA).

Service, Inbetriebnahme und Dokumentation

Lieferzeit: max. 14 Monate nach Bestellung.Installation, Dokumentation und Training für bis zu 5 Nutzer.Gewährleistung: mind. 24 Monate nach Abnahme (Schlusstest).Verfügbarkeit von Ersatzteilen: mind. 10 Jahre nach Lieferung.Optionaler Servicevertrag: 5 Jahre.Software-Fehlerbehebung: 10 Jahre.Schadensreparatur bei Automatisierungsfehlern: 5 Jahre.Reaktionszeit Service-Hotline: max. 30 Minuten.Serviceeinsatz-Reaktionszeit: max. 5 Arbeitstage.Zweiter Satz Kammershields und Liner im Lieferumfang.

Eignungskriterien

Geforderte Nachweise laut Vergabeunterlagen

Verpflichtende technische Ausschlusskriterien

Abmessungen: Footprint ≤350 cm × 400 cm, Höhe ≤330 cm; passt durch Türöffnungen (250 cm Höhe, 100 cm Breite).Basisdruck Deposition/Oxidation: ≤5×10⁻⁹ mbar (Wunsch: ≤1×10⁻⁹ mbar).Substratgröße: bis 8 Zoll homogen bearbeitbar, Uniformität ≤5%.Automatisierung: automatisierte Depositionsprozesse und automatisierter Oxidationsprozess in der Oxidationskammer.

Ausschlussgründe und Eignung (rechtlich/wirtschaftlich)

Keine Ausschlussgründe gemäß § 123 GWB: keine einschlägigen rechtskräftigen Verurteilungen, keine Geldbuße nach § 30 OWiG; Erfüllung der Steuer-, Abgaben- und Sozialversicherungspflichten.Keine Ausschlussgründe gemäß § 124 GWB: keine Verstöße gegen Umwelt-, Sozial- oder Arbeitsrecht; keine Insolvenz; keine schwere Verfehlung; keine wettbewerbsbeschränkenden Vereinbarungen; keine mangelhafte Auftragsausführung.Keine Ausschlussgründe gemäß § 21 SchwarzArbG: keine einschlägigen Verurteilungen (SGB III, AÜG, § 266a StGB).Wirtschaftliche Leistungsfähigkeit: Umsatz mit vergleichbaren Leistungen in den letzten 3 abgeschlossenen Geschäftsjahren (€ netto).Technische Leistungsfähigkeit: mind. 3 vergleichbare Referenzen aus den letzten 3 Geschäftsjahren.Berufsgenossenschaft/Unfallversicherung: Bezeichnung und Mitgliedsnummer.Handelsregistereintrag: Nummer und Amtsgericht (oder Begründung, falls nicht einschlägig).

Konformität und Serviceanforderungen

CE-Kennzeichnung und EU-Konformitätserklärung gemäß MRL 2023/1230, EMV 2014/30/EU, NSR 2014/35/EU, PED 2014/68/EU, RoHS 2011/65/EU.Einhaltung SEMI S6 (Abluftventilation) und SEMI S22 (elektrische Sicherheitsauslegung).

Referenzprojekte

3 ReferenzenZeitraum: aus den letzten 3 abgeschlossenen Geschäftsjahren

Mindestens 3 Referenzen von ähnlichen UHV-Cluster- bzw. Depositionssystemen

Ähnliche Systeme (UHV-Cluster für Dünnschicht-/Supraleiter-Fertigung); je Referenz Angabe von Leistung, Leistungszeitraum, Auftraggeber mit Ansprechpartner und Telefonnummer; Gewichtung 5% der Zuschlagskriterien

KI-Hinweis: Alle Eignungskriterien wurden per KI aus den Vergabeunterlagen extrahiert. Mit TendiGo prüfen Sie in wenigen Minuten, ob Ihr Unternehmen die Anforderungen erfüllt.

Wettbewerb & Angebotsprognose

Erwartete Konkurrenz auf Basis vergleichbarer Vergaben

1–3Angebote erwartet

Median vergleichbarer Vergaben: rund 2 Angebote

Geringe Konkurrenz

Wahrscheinliche Bieterzahl

1–3 · 85%4–10 · 14%11+ · 0%

Checkliste zur AngebotsabgabeKonkrete Schritte laut Vergabeunterlagen0 von 21 erledigt

Pflichtformulare und Erklärungen

Technische Angebotsunterlagen

Konformität & rechtliche Nachweise

Referenzen & wirtschaftliche Eignung

Preisblätter & optionale Komponenten

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Auf einen Blick

Auftraggeber

Lehrstuhl für Technische Physik E23, TUM | Regierung von Oberbayern - Vergabestelle Südbayern | Datenservice Öffentlicher Einkauf (in Verantwortung des Beschaffungsamts des BMI)

Anschrift

85478 Garching

Ort

85748 Garching

Kategorie

Bayern

Veröffentlicht

20. August 2026

Angebotsfrist

05. Oktober 2026

Auftraggeber-Website

www.wmi.badw.de ↗