Zusammenfassung
Automatisch erstellt aus den VergabeunterlagenDie Fraunhofer-Gesellschaft beschafft für das Heinrich-Hertz-Institut in Berlin ein kombiniertes FIB-SEM-System (Focused Ion Beam + Rasterelektronenmikroskop) für die Halbleiterforschung.
Das Gerät dient zur Strukturierung, Nanostrukturierung sowie Querschnitts- und Oberflächenanalyse von Materialien wie III/V-Halbleitern, LNOI, Polymeren und Resist-Materialien.
Im Teilnahmewettbewerb wird die Eignung der Bewerber geprüft. Erst in der zweiten Phase werden Angebote mit Preis und technischer Ausführung abgegeben. Optional können Schulung, Gasinjektionssystem und ein Softwaremodul angeboten werden.
Zeitplan & Fristen
Aus den Vergabeunterlagen extrahiertZuschlagskriterien
Gewichtung laut Vergabeunterlagen- Preis40%
Angebotspreis ohne MwSt. Metrisches Kriterium, wird linear interpoliert: niedrigster Preis erhält volle Punktzahl, doppelter Preis = 0 Punkte.
- Technische Ausführung des Produktes / der DL50%
Nichtmetrisches Kriterium. Bewertet die technische Eignung und Qualität des angebotenen FIB-SEM Dualbeam Systems anhand der Anforderungen der Leistungsbeschreibung. Skala 0-100 Punkte nach Abwägung aller Vor-/Nachteile (Note 1-5).
- Nachhaltigkeit / Sustainability10%
Nichtmetrisches Kriterium zur Bewertung der Nachhaltigkeitsaspekte des Angebots. Die genaue Bewertungsstruktur ist dem LV zu entnehmen.
100 Punkte maximal. Metrische Kriterien (Preis, Lieferzeit) werden linear interpoliert: niedrigster Wert = volle Punktzahl, doppelter Wert = 0 Punkte, dazwischen lineare Interpolation. Nichtmetrische Kriterien werden auf einer Skala 0-100 nach Abwägung aller Vor-/Nachteile bewertet (Note 1=100%, Note 2=80%, Note 3=60%, Note 4=40%, Note 5=20%, Ausschluss=0%). Gesamtpunktzahl = Summe der gewichteten Punkte pro Zuschlagskriterium.
Leistungsumfang
Aus den VergabeunterlagenHauptleistung: FIB-SEM Dual-Strahl-System
Lieferung, Installation und Inbetriebnahme von 1 Stück FIB-SEM Dual-Strahl-System (feld frei, ohne Immersionsoptik) inklusive hochauflösendem Rasterelektronenmikroskop (SEM).
Das System muss programmierbare und automatisierbare Routinen unterstützen. Der Bieter ist verantwortlich dafür, dass die Geräte- und Prozessspezifikationen (inkl. Prozessgas) eingehalten werden.
Raummessungen am Aufstellungsort
Am Aufstellungsort (Berlin, Einsteinufer 37) sind Messungen durchzuführen zu:
Einsatzgebiete
Das System wird eingesetzt für:
Optionale Leistungen
Folgende Optionen können angeboten werden – sie fließen in die Wertung ein, ihr Nichtangebot führt aber nicht zum Ausschluss (0 Punkte bei Nichtangebot):
Eignungskriterien
Geforderte Nachweise laut VergabeunterlagenUnternehmensprofil
Vorlage eines Firmenprofils in Textform mit Gründungsjahr, Anzahl der Mitarbeiter und einer kurzen Beschreibung des Herstellungs- bzw. Leistungsspektrums (keine Links, keine Bilder).
Wirtschaftliche Leistungsfähigkeit
Angabe der Umsätze der letzten drei Geschäftsjahre in Textform.
Fachliche Eignung / Referenzen
Mindestens 3 Referenzprojekte aus den letzten 5 Jahren mit vergleichbaren Plasma-FIB-Anlagen, die Xenon als Prozessgas verwenden (keine reinen Gallium-Ionen-FIB), aus dem Bereich Halbleiterfertigung oder Halbleiterforschung.
Pro Referenz sind anzugeben: Kurzbeschreibung des Geräts (Art, Modell, wesentliche technische Merkmale), Name und Kontaktdaten des Auftraggebers sowie das Jahr der Leistungserbringung.
Keine Ausschlussgründe
Eigenerklärung, dass keine Ausschlussgründe nach §§ 123 und 124 GWB vorliegen (unterschriebene Datei '1_C_Selfdeclaration 123-124 GWB.pdf').
EU-Sanktionen Russland
Eigenerklärung gemäß EU-Verordnung 833/2014 (Sanktionen wegen Russlands Handlungen in der Ukraine):
(Die Datei '1_C_Selfdeclaration - (EU) No. 833-2014.pdf' ist unterschrieben einzureichen.)
Nachunternehmer
Werden Nachunternehmer eingesetzt, sind diese zu benennen. Ihre Eignung ist nachzuweisen (analog zu den Eignungskriterien des Hauptbieters), außerdem sind Verfügbarkeit und ihr Leistungsanteil darzulegen.
Bonitäts- und Registerprüfung
Mindestlohn
Verpflichtung zur Einhaltung des Mindestlohngesetzes (MiLoG); Nachunternehmer sind ebenfalls entsprechend zu verpflichten. Es darf kein Ausschlussgrund nach § 19 Abs. 1 MiLoG vorliegen.
Lieferung/Inbetriebnahme einer Plasma-FIB-Anlage mit Xenon als Prozessgas, eingesetzt in der Halbleiterfertigung oder Halbleiterforschung
Pro Referenz: Kurzbeschreibung des Geräts (Art, Modell, technische Merkmale), Name und Kontaktdaten des Auftraggebers, Jahr der Leistungserbringung. Reine Gallium-Ionen-FIB zählen nicht.