Ausschreibungen Hessen
Betriebsbereite Lieferung einer Magnetronsputteranlage für Dünnschichtmaterialentwicklung
Universität Kassel, vertreten durch die Präsidentin34109 Kassel, HessenVeröffentlicht:
Angebotsfrist:
Zusammenfassung
Automatisch erstellt aus den VergabeunterlagenDie Universität Kassel kauft eine betriebsbereite, automatisierte Mehrtarget-Magnetronsputteranlage für die Dünnschichtentwicklung im Reinraum.
Die Anlage muss Wafer bis 150 mm Durchmesser beschichten können und mehrere Targets, reaktive Prozessgase sowie beheizte Substrate bis mindestens 600 °C unterstützen.
Der Auftragnehmer liefert, installiert, nimmt in Betrieb, weist das Personal ein, dokumentiert und übernimmt die Garantie. Lieferung bis 15.03.2027, Inbetriebnahme bis 15.04.2027.
Zeitplan & Fristen
Aus den Vergabeunterlagen extrahiertTermin / FristOKT2026NOVDEZJAN2027FEBMÄRAPR
Bieterfragen-Frist23. Okt. 2026
Angebotsfrist30. Okt. 2026
Angebotsöffnungca. 30. Okt. 2026
Bindefrist20. Nov. 2026
Zuschlagca. 23. Nov. 2026
Ausführungsbeginnca. 23. Nov. 2026
Vertragslaufzeitca. 23. Nov. 2026 – 15. Apr. 2027
Lieferung15. März 2027
Inbetriebnahme15. Apr. 2027
VeröffentlichungDatum offenVeröffentlichung der Bekanntmachung im Vergabeportal DTVP/undcosinex.
vor Angebotsabgabenach Angebotsabgabegeschätzt
Zuschlagskriterien
Gewichtung laut VergabeunterlagenNiedrigster Preis1 Kriterium
Preis 100%Qualität 0%
- Preis100%
Niedrigster Preis als einziges Zuschlagskriterium
KI-Hinweis: Zuschlagskriterium eindeutig aus der Bekanntmachung: Wertungsmethode 'Niedrigster Preis'.
Leistungsumfang
Aus den VergabeunterlagenLiefergegenstand – Magnetronsputteranlage
Automatisierte Mehrtarget-Magnetronsputteranlage für Dünnschichtentwicklung.
Komponenten (Mindestausstattung):
3× 2-Zoll-Magnetronsputterquellen1× DC-Netzteil 500 W mit 2 Ausgängen1× bipolares Pulsed-DC-Netzteil 1 kW mit 2 Ausgängen3× getrennt regelbare ProzessgasleitungenRotierender, reaktivgasbeständiger Substrattisch mit Heiztemperatur bis ≥600 °CBias-AufrüstungMotorisierte BlendenPC-gestützte Steuerung mit programmierbaren Prozessabläufen
Einsatzzweck: Beschichtung von Wafern bis 150 mm Durchmesser im Reinraum.
Lieferung, Installation & Inbetriebnahme
Lieferung der Anlage inkl. Steuerungs- und Computerausstattung sowie SoftwareInstallation am ErfüllungsortInbetriebnahme und FunktionstestEinweisung des BedienpersonalsVollständige DokumentationGarantie
Termine & Erfüllungsort
Lieferung bis: 15.03.2027Inbetriebnahme bis: 15.04.2027Erstauftrag / Laufzeitbeginn: voraussichtlich 23.11.2026Erfüllungsort: Universität Kassel, Institut für Nanostrukturtechnologie und Analytik, Heinrich-Plett-Str. 40, 34132 Kassel
Eignungskriterien
Geforderte Nachweise laut VergabeunterlagenPersönliche Lage
Eintragung im Berufs- oder HandelsregisterFalls Unterauftragnehmer eingesetzt werden, sind entsprechende Angaben einzureichen
Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit
Bescheinigung der zuständigen Stelle des Mitgliedstaates über die Erfüllung der Verpflichtungen zur Zahlung der Sozialbeiträge nach den Rechtsvorschriften des Landes des öffentlichen Auftraggebers
Technische und berufliche Leistungsfähigkeit
Nachweis von mindestens 3 vergleichbaren Projekten innerhalb der letzten 2 Jahre (Umfang, finanzieller Aufwand, technische Anforderung)Pro Referenz: Auftragswert, Bezeichnung des Lieferumfangs, Adresse, AnsprechpartnerAuflistung der Service-Standorte, getrennt nach innerdeutsch, europäisch und weltweitAngaben zu Wartung und Service: Verfügbarkeit des Servicepersonals, Reaktionszeiten, Ersatzlieferungen
Sonstige Bedingungen
Verpflichtungserklärung zu Tariftreue und Mindestentgelt nach HVTG (Hessisches Vergabe- und Tariftreuegesetz)Ausgefüllter Vordruck 'Erklaerung_Unternehmensdaten.pdf'Eigenerklärung VHB 124 (für nicht präqualifizierte Unternehmen)
Wertung
Zuschlag erhält das Angebot mit dem niedrigsten Preis
Referenzprojekte
3 ReferenzenZeitraum: innerhalb der letzten 2 JahreVolumen: nicht beziffert; Vergleichbarkeit in Umfang und finanziellem Aufwand erforderlich
Mindestens 3 vergleichbare Projekte (Magnetronsputter- bzw. vergleichbare Dünnschicht-Beschichtungsanlagen) innerhalb der letzten 2 Jahre mit ähnlichem Umfang, finanziellem Aufwand und technischen Anforderungen.
Pro Referenz sind beizufügen: Auftragswert, Bezeichnung des Lieferumfangs, Adressangaben, unverbindlich kontaktierbarer Ansprechpartner.
KI-Hinweis: Alle Eignungskriterien wurden per KI aus den Vergabeunterlagen extrahiert. Mit TendiGo prüfen Sie in wenigen Minuten, ob Ihr Unternehmen die Anforderungen erfüllt.
Wettbewerb & Angebotsprognose
Erwartete Konkurrenz auf Basis vergleichbarer Vergaben1–3Angebote erwartet
Median vergleichbarer Vergaben: rund 2 Angebote
Wahrscheinliche Bieterzahl
1–3 · 84%4–10 · 15%11+ · 0%
Checkliste zur AngebotsabgabeKonkrete Schritte laut Vergabeunterlagen0 von 13 erledigt
Formale Nachweise & Erklärungen
Eignung & Referenzen
Technisches Angebot
Preis & Sonstiges
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Zur Original-Ausschreibung ↗Auf einen Blick
Auftraggeber
Universität Kassel, vertreten durch die Präsidentin
Ort
34109 Kassel, Hessen
Kategorie
Hessen
Veröffentlicht
Angebotsfrist
Erfüllungsort
Ort der Leistung
34109 Kassel
Hessen
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